Semiconductor

반도체·디스플레이 팹의 부속 환경부터 후공정 정밀 공조까지,
고청정·정밀 온습도가 요구되는 공정 환경을 설계하고 구축합니다.

반도체 클린룸 디테일 — FFU 필터면, 타공 이중바닥, 온습도 센서와 차압계
Industry Context

나노 단위 공정,
환경이 곧 수율입니다.

반도체·디스플레이 공정은 파티클·수분·정전기·미세 온도 편차 하나만으로도 결함률이 크게 흔들리는 초민감 공정입니다. 노광·에칭·증착 등 핵심 공정은
ISO Class 1~5 수준의 청정도와 ±0.1℃대의 온습도 안정성을 요구하며,
후공정·검사 라인 역시 파티클과 크로스 컨태미네이션 관리가 필수입니다.
이러한 조건은 팹 본체뿐 아니라 그와 연결된 부속 시설·후공정 라인 전반에서 안정적으로 유지되어야 합니다.

Our Solutions

고청정·저노점을 아우르는
정밀 환경 엔지니어링.

Industrial Clean Room · Precision HVAC · Dry Environment

인터제로시스템은 반도체·디스플레이 공정에 요구되는 산업용 클린룸과 ±0.1℃ 수준의 정밀 공조, 포토·화학 공정용 저노점 환경을 통합 설계·구축합니다.
배터리·바이오 등 첨단 제조 현장에서 검증한 고청정·정밀 온습도 엔지니어링을 바탕으로, 팹 부속 시설과 후공정·검사 라인에 최적화된 환경을 구현합니다.

FMCS / BAS중앙감시 · 트렌드 · 알람
1공기조화기 (MAU)
  • DDC 판넬노점·온도 PID
  • 노점센서급기 DP
  • 제어밸브냉수·온수
  • 인버터급기팬 INV
2FFU
  • MCU메인 컨트롤러
  • LCU × n로컬 컨트롤러
  • FFUEC 모터
3Clean Room 환경감시
  • 온습도TE / HE
  • 실 차압DPS
  • 파티클Particle Counter
  • 알람·이력FMCS 기록
4Dry Cooling Coil
  • DDC 판넬현장 PID
  • 2-way 밸브냉수량
  • 혼합밸브2차 루프
  • 결로방지노점 +2~3°C
5배기 · 대기방지시설
  • 정압센서덕트 정압
  • 배기팬INV · 이중화
  • 스크러버pH · 수위
  • PLC 판넬MAU 연동
SA Clean Room 생산설비 생산설비 EA OA System Ceiling Fan Filter Unit Dry Cooling Coil Access Floor 대기방지시설 공기조화기 DEWΔPT/HPC 123445